精确控制温度和真空度对于获得高质量、性能稳定的镀膜效果至关重要，在镀膜过程中，温度和真空度对镀膜效果有以下重要影响：
温度的影响：
1. 镀膜材料蒸发速率：
温度过高会导致蒸发速率过快，使镀膜厚度不均匀，还出现飞溅等问题，影响镀膜质量，温度过低则导致蒸发不充分，镀膜不连续。
2. 膜层结构和性能：
合适的温度有助于形成理想的膜层结构，如结晶形态等，从而影响膜层的硬度、结合力等性能。
真空度的影响：
1. 镀膜纯净度：
高真空度能减少杂质气体的混入，使镀膜更纯净，提高膜层的质量和光学性能等。
2. 镀膜均匀性：
良好的真空环境有助于镀膜材料均匀地沉积在亚克力板表面，避免因气体干扰而导致膜层不均匀。
3. 粒子散射：
低真空度下粒子散射增加，会使膜层变得粗糙，影响其平整度和光泽度等。