亚克力板的真空蒸发镀膜的原理主要是：

在高真空环境下，将镀膜材料（通常为固体）放置，在蒸发源中，通过加热等方式使镀膜材料升华或蒸发成气态分子或原子。
镀膜材料原子或分子会在真空环境中自由运动，并在具有一定温度的基体（被镀膜的物体）表面沉积、聚集，逐渐形成连续一层的薄膜。
由于在真空环境中，气体分子极少，减少了镀膜材料与气体分子的碰撞和干扰，使得镀膜材料能够顺利和彻底地沉积在基体上，从而实现对基体的镀膜处理。
以下是通过控制真空蒸发镀膜温度来改善膜层性能的方法：
当温度较低时：
1. 可以减少镀膜材料形成的分层热和氧化，保持其化学梯度，从而改善膜层的化学稳定性和梯度。
2. 有助于增强致密的膜层结构，提升
适当提高温度时：
1. 加快可以镀膜材料的蒸发速率，使膜层生长更均匀，改善膜层的厚度均匀性。
2. 能促进镀膜材料原子或分子在基体上的作用表面的迁移和扩散，有利于形成结晶更完善、赋予力更强的膜层，提升膜层的结合力和机械性能。
然而，温度的控制需要非常精确，过高或过低都会带来不良影响需要根据具体的镀膜材料和工艺要求，通过反复试验和优化来确定最合适的温度范围，以实现对膜层性能的最佳改善。