真空蒸发镀膜存在以下一些缺点：
1.结合力有限：
膜层与基体的结合力有时不够牢固，在一些情况下容易剥落。
2.绕镀性差：
对形状复杂的工件某些部位较难均匀镀膜。
3.材料受限：
一些高熔点、难蒸发的材料不太适合用这种方法镀膜。
4.膜层均匀性较难保证：
尤其是在大面积镀膜时，容易出现厚度不均匀的情况。
5.对真空度要求高：
维持高真空环境需要较高的成本和维护工作。
6.易产生缺陷：
如针孔、颗粒等缺陷相对更容易出现。
7.工艺稳定性依赖因素多：
受多种因素如温度、真空度、蒸发速率等影响较大，工艺稳定性相对较难控制。