真空蒸发镀膜技术具有以下优点：
1.设备相对简单：
与一些其他镀膜技术相比，其设备构造和操作较为简便。
2.沉积速率较高：
在合适条件下能较快地形成镀膜。
3.可镀多种材料：
能够对广泛的金属和化合物进行镀膜。
4.膜层纯度高：
在高真空环境下，能减少杂质混入，获得纯度较好的膜层。
5.成本较低：
设备和工艺成本相对不高。
6.适用范围广：
可用于各类材料的表面镀膜，包括玻璃、塑料、金属等。
7.能获得特定性能：
如良好的光学性能、电学性能、装饰性能等。
8.工艺较成熟：
经过长期发展，技术相对成熟和稳定。